Mejora de la litografía de copolímero en bloque a través del descenso de gradiente estocástico adaptativo y optimización de máscara dinámica
Mejora de la litografía de copolímeros en bloque mediante el descenso de gradiente estocástico adaptativo y la optimización dinámica de máscaras. Descubre cómo esta técnica avanzada puede revolucionar la fabricación de dispositivos nanoestructurados.
